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丹麦NILT公司是的纳米压印模板 掩膜供应商，其提供纳米压印机和纳米加工模板在内的一系列纳米压印相关产品，包括各类材质，各类功能的压印模板，掩膜。
NILT通过热模压、滚印、注射模塑和紫外压印等不同的工艺，能生产制造出各类不同功能的纳米压印模板。其中标准的压印掩膜（模板）根据功能的不同，分为抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光栅模板，金属线栅偏光镜标准模板，微针体标准母膜，大面积柱形标准母膜，微图形标准模板 (MICRO)，亚微米标准模板。
NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)，纳米压印模板 掩膜
抗反射膜模板的特点是以大面积为主；适用于可见光范围和近红外范围，反射率可减低到 0.2%
规格 | Type B | Type A | Type C | Type NIR |
模板型号 | ARSS_B_06 | ARSS_A_02 | ARSS_C_02 | ARSS_NIR_02 |
材质 | Nickel | Nickel | Nickel | Nickel |
光栅类型 | Hexagonal Array | Hexagonal Array | Hexagonal Array | Hexagonal Array |
Pitch | 300 nm | 250 nm | 250 nm | 500 nm |
Average height | 300 nm | 350 nm | 350 nm | Larger than 700 nm |
模板厚度 | 300 µm | 300 µm | 300 µm | 300 ?m |
模板尺寸 | 70 mm x 70 mm | 120 mm x 120 mm | 250 mm x 250 mm | 100 mm x 100 mm |
有效面积 | 50 mm x 50 mm | 100 mm x 100mm | 200 mm x 200 mm | 80 mm x 80 mm |
Expected %R PMMA | Less than 0.6% | Less than 0.2% | Less than 0.2% | Less than 0.2% |
Pattern polarity | Protrusions | Protrusion | Protrusions | Holes |
NIL Technology衍射光栅模板 (DIFFRACTION GRATINGS)
衍射光栅采用镍材质模板，表面纹路分为线状或交叉状两种，平均深度为250nm，线距为500nm。适合用于：LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING，将不同光导入波导WAVEGUIDE，光学分束，镭射感应器，薄膜行业和太阳能光伏等。
特点：
纹路形状呈正弦曲线SINUSOIDAL ，纹路的参数也不同
80 x 80mm有效面积（模板面积为100 x 100mm）
规格：
规格 | Linear Grating | Crossed grating |
模板型号 | DG_L500 | DG_C500 |
材质 | Nickel | Nickel |
Profile shape | Sinusoidal | Sinusoidal |
Pitch | 500 nm | 500 nm |
Average depth | 250 nm | 250 nm |
模板厚度 | 300 µm | 300 µm |
模板尺寸 | 100 mm x 100 mm | 100 mm x 100 mm |
有效面积 | 80 mm x 80 mm | 80 mm x 80 mm |
NIL金属线栅偏光镜模板(WIRE GRID POLARIZER)
一般金属线栅偏光镜制造出来后需要经过一定测试，而NILT通过纳米压印生产出金属线栅偏光镜的标准模板，可避免频繁的测试，免去因测试所造成的成本。标准模板的线呈槽状，槽宽、槽距均为50nm，模板的有效面积可达12 x 12mm, L/S 50nm，模板复制子模适用于UV或热压过程。
规格：
规格 | Type A | Type B |
模板型号 | WGPSS_A_V1 | WGPSS_B_V1 |
模板尺寸 | 2 inch round wafer with flat | 2 inch round wafer with flat |
材质 | Silicon | Silicon |
有效面积 | 12 mm x 12 mm | 6 mm x 6 mm |
模板厚度 | 500 µm +/- 25 µm | 500 µm +/- 25 µm |
结构类型 | 50 nm wide grooves with 50 nm spacing | 50 nm wide grooves with 50 nm spacing |
横向公差 | +/- 10 nm | +/- 10 nm |
结构深度 | 100 nm | 100 nm |
垂直公差 | +/- 15 nm | +/- 15 nm |
缺陷密度 | Less than 0.01% of patterned area | Less than 0.01% of patterned area |
NIL微针体标准模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)
NILT提供的微针体标准模板的特点是特点：1. 微针呈正方形排列相隔500um； 2. 有效面积达70mm(斜角计)
微针体模板可经热压或铸造出所需微针形状，可利用模板采用镍片注塑而成。标准模板造出的微针体有足够硬度可用于皮肤的不同测试，医学方面可应用的涂药式微针或注射式微针。
规格：
规格 | Micro-needle - Type A |
模板型号 | MNSS_A_V1 |
材质 | Silicon |
微针布局 | Square array |
微针基本尺寸 | 100 µm x 100 µm |
微针高度 | 200 µm (base to tip) |
微针*高度 | 70 µm |
微针*曲率半径 | ~1 µm |
微针间距 | 500 µm |
模板尺寸 | 100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat) |
模板厚度 | 525 µm (SEMI standard wafer with a flat) |
有效面积 | 70 mm diagonal square area in the center |
NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)
NILT的精工增光掩膜可精准控制增光度，形状可选择直线、椭圆形和圆形，定制性强，面积可达 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如镭射、LED、LCD的背光源，而同时拥有很高的透光率。
规格 |
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Circular version | Type B | Type D |
模板型号 | EDSS_B_C_V1 | EDSS_D_C_V1 |
结构类型 | Engineered Diffuser | Engineered Diffuser |
输出类型 | Circular diffusion | Ciruclar diffusion |
Diffusion angles (FWHM)* | 25° | 25° |
材质 | Nickel | Nickel |
模板厚度 | 300 µm | 300 µm |
模板尺寸 | 70 mm x 70 mm | 120 mm x 120 mm |
有效面积 | 50 mm x 50 mm | 100 mm - 100 mm |
NIL大面积柱形标准模板 (LARGE AREA PILLARS)
大面积柱形标准模板采用光子晶体结构，是以方形排列光子晶体并分布在4个1平方米的格子的硅晶圆上。
可选4种不同规格的大面积柱形模板，结构尺寸在125 – 275nm之间，
规格:
规格 |
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模板型号 | LAPSS_V1 |
模板尺寸 | 2 inch round wafer |
材质 | Silicon |
厚度 | 525 µm +/- 25 µm |
结构尺寸 | 125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares) |
Structure pitch | 200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm |
Protrusion height | 100 nm - 300 nm (you decide!) |
Tolerance, lateral and vertical dimensions | +/- 15% |
缺陷密度 | Less than 0.1% of total patterned area |
NIL亚微米标准模板 (SUB-MICRO)
亚微米标准模板的图形有3种，包括线(500nm)、柱(1um)、孔(2um)，是专门为测试亚微米至纳米级压印而设计的，材料可选择硅或石英，标准尺寸为 20 x 20mm。
规格：
模板型号 | MSS_V1 |
模板尺寸 | 20 mm x 20 mm |
材质 | Silicon |
厚度 | 1 mm |
结构尺寸 | 1 µm - 50 µm |
Etch depth | 2 µm, 5 µm or 10 µm |
Pattern field size | 4 mm x 4 mm |
交期 | 3-4 weeks |
NIL微图形标准模板 (MICRO)
微图形标准模板有4种图形,包括直线、横线、柱状和孔状，其尺寸为1um, 5um, 10um, 50um呈现在20mm x 20mm硅晶圆片上。
规格：
模板型号 | SMSS_SIQZ_V1 |
模板尺寸 | 20 mm x 20 mm |
材质 | Silicon or Fused Silica |
厚度 | 1 mm |
结构尺寸 | 500 nm - 2 µm |
Etch depth | 1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica |
Pattern field size | 5 mm x 5 mm |
交期 | 3-4 weeks |
微透镜阵列模板
NILT提供带凹面或凸面微透镜阵列的纳米微加工模板，用于通过热压印或注塑成型生产聚合物微透镜阵列。 材质一般采用熔融石英或镍制成。 NILT可以独立的控制镜头深度、高度和宽度，因此可以在压印模板上制作任何抛物面镜片形状。
压印模板的直径可达150mm，镜头尺寸从300nm-400μm，还可以提供具有凸透镜和凹透镜阵列的聚合物材质复制品。
微透镜阵列压印模板 | |
压印模板尺寸 | 可达150 mm |
压印模板材质 | 熔融石英或镍 |
微透镜尺寸 | 300 nm - 400 µm |
SAG | 可达 50 µm |
Lens arrangements | Hexagonal closed packed |
Square and hexagonal, not closed packed | |
Lenticular | |
