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关键词：镀膜、金属膜、Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo
可在导体或绝缘体上溅射任何薄膜
气路：Ar气路配搭MFC
阴极：3个4英寸直流磁控管，一个加强磁控管用于Ni，一个6英寸磁控源
靶材： Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo
直流电源：200mA-1A（1千瓦功率）
衬底偏置：等离子刻蚀，20-250W（RF ）
样品台：可接纳4个4英寸衬底，衬底可旋转
真空泵：前级泵+低温泵
全自动、半自动、手动模式
支持远程维护和操作
