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快速退火炉LRTP-1200,采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。
快速退火炉应用案例
快速热处理,快速退火,快速热氧化,快速热氮化
离子注入/接触退火
SiAu, SiAl, SiMo合金化
太阳能电池片键合
电阻烧结
低介电材料热处理
晶体化,致密化
其他热工艺需求
快速退火炉产品特点
可测大尺寸样品 可测单晶片样品的尺寸为4英寸(100mm)。
快速控温与高真空 升温速率可达100℃/s,真空度可达到10Pa。
程序设定与气路扩展 最多可创建和存储32个程序、8个PID设定,实现不同温度段的精确测试。最多可扩展至4条工艺气路(MFC),应用不同气氛环境(真空、氮气、氩气、氧气、氢氮混合气体等)。
全自动智能控制 采用全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空、气氛、冷却水等均可实现自动控制。
超高安全系数 采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,保障仪器使用安全。