KRI 离子源用于离子束抛光机
- 发布时间：2024/1/2 14:28:02
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离子束抛光适用于大面积、异型、特殊材料等加工对象的超高精度非接触式修形及抛光, 精度可达亚纳米级, 被誉为终抛光. 离子束抛光机的最核心部件是可聚焦的高能量离子源. 上海伯东某客户为专业精密光学元器件设备制造商, 主要产品为离子束抛光机、磁流变抛光机等, 提供超精密光学工艺制造研发服务, 是一家超精密光学元器件解决方案提供商. 经推荐, 该客户采用上海伯东美国 KRi 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机.
KRI 离子源用于离子束抛光机:
应用方向：非接触式亚纳米离子束表面修形
应用领域：半导体/精密光学
产品类别：高精密光学器件
加工指标：
1. 加工尺寸能力 5-1200mm ；
2. 采用非接触式加工, 无边缘效应, 不产生亚表面损伤；
3. 亚纳米加工精度, 可实现面型 RMS<3nm 高精度抛光能力；
4. 加工光学元器件形状有：平面、球面、非球面、自由曲面、离轴非球面等；
5. 加工光学元器件材料有：石英玻璃、微晶、超低膨胀玻璃、KDP 晶体、蓝宝石、硅、碳化硅、红外材料等.
美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源, 新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制. 考夫曼离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用. 考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度, 使抛光刻蚀速率更快更准确, 抛光后的基材上获得更平坦, 均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源在离子抛光机内部的移动运行.
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:
型号 | KDC 10 | KDC 40 | KDC 75 | KDC 100 | KDC 160 |
Discharge 阳极 | DC 电流 | DC 电流 | DC 电流 | DC 电流 | DC 电流 |
离子束流 | >10 mA | >100 mA | >250 mA | >400 mA | >650 mA |
离子动能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
栅极直径 | 1 cm Φ | 4 cm Φ | 7.5 cm Φ | 12 cm Φ | 16 cm Φ |
离子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 1-5 sccm | 2-10 sccm | 2-15 sccm | 2-20 sccm | 2-30 sccm |
通气 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型压力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
长度 | 11.5 cm | 17.1 cm | 20.1 cm | 23.5 cm | 25.2 cm |
直径 | 4 cm | 9 cm | 14 cm | 19.4 cm | 23.2 cm |
中和器 | 灯丝 | ||||
上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐