将水中的离子几乎去除，又将水中的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备，专业单晶硅炉用超纯水设备取代了传统的离子交换技术，生产出稳定的去离子水是佳水处理技术。
单晶硅炉用超纯水设备的具体参数如下：
超纯水处理：既将水中的导电介质几乎去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值(25℃)。超纯水处理，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm(25℃)。
工业超纯水处理：RO+CEDI+SMB
设备处力：按客户要求设计
出水指标：≥16-18.2MΩ.CM
产水用途：电子、等行业用工业超纯水
反渗透+EDI
设备处力：按客户要求设计
出水指标：≥16-.18.2MΩ.CM
产水用途：电子、单晶硅/多晶硅用工业超纯水、纯水工业
超纯水处理：RO+CEDI+SMB
设备处力：按客户要求设计
出水指标：≥16-18.2MΩ.CM
产水用途：电子、等行业用工业超纯水
反渗透(膜分离法)超纯水分离技术：反渗透是用足够的压力使溶液中的溶剂(一般指水)通过反渗透膜(一种半透膜)而分离出来，方向与渗透方向相反，可使用大于渗透压的反渗透法进行分离、提纯和浓缩溶液。反渗透膜的主要分离对象是溶液中的离子范围
反渗透分离过程有如下优点：①不需加热，没有相变②能耗少，过程连续稳定③设备体积小、操作简单、适应性强④对环境不产生污染
反渗透纯水系统根据不同的源水水质采用不同的工艺，一般自来水经一级反渗透处理后，产水电导率<10～20us/cm，经二级反渗透处理后<5us/cm，甚至更低，在反渗透系统后辅以离子交换设备或EDI设备可以制备超纯水，使电阻率高达18.2兆欧姆.厘米。
单晶硅炉用超纯水设备相关应用：
1、电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
2、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等用纯水。
3、单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
