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HMDS预处理系统(电脑式HMDS真空充氮烘箱)主要应用于半导体晶圆片光刻涂胶镀膜前预处理，增黏剂HMDS涂覆作业。本设备适用于在涂胶前对晶片进行预处理，集真空、烘烤、充氮、洁净、HMDS加液多功能与一体。设备由箱体、真空、加热、充氮、加液及控制等系统组成。通过多次预抽真空，充氮加热循环进行，既能达到使硅片表面干燥、洁净的效果，又能够有效的防止硅片的氧化和杂质的扩散，并且可以通过加液系统在硅片表面开成HDMS保护膜，从而使硅片具有良好的涂胶性能。和手工涂布HMDS相比，具有重复性好，节省药液，环保，对人体无害的显著优点;也可用于晶片其它工艺的清洗。
