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仪器简介:
公司拥有齐全的纳米系列压印胶材料,热压型纳米压印胶、热塑型纳米压印胶、紫外光固化型、紫外光固化纳米压印和光刻两用胶、举离型传递层材料、刻蚀型传递层材料、各种与纳米压印技术相关的化学药品,如模板防粘剂、基片增粘剂等。适用于Obducat,Suss,HP,EVG等多种型号的纳米压印设备。
技术参数:
IPNR-T1000 | Thermal plastic nanoimprint resist 热塑型 |
IPNR-T2000 | Thermal curable nanoimprint resist 热固化型 |
IPNR-PC1000 | Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型(自由基引发) |
IPNR-PC2000 | Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型(阳离子引发) |
IPNR-UL1000 | Under-layer polymer for lift off process 举离型传递层材料 |
IPNR-UL2000 | Under-layer polymer etching mask process 刻蚀型传递层材料 |
IPNR-UPM | Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 |
IPNR-AP | Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘剂 |
同时还能能够根据不同的模板提供相应的防粘试剂。