伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator 产品特点包括：电源功率5 KW、坩埚容量40 CC、基板公自转、基板加热温度350℃，PID控制、石英震荡片膜厚监控、极限真空3×10^-7Torr，无油泵、低温泵（9000 L/sec）、膜厚均匀性<= ± 5%

电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator应用于制备导电薄膜，半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜。