伯东公司代理等离子刻蚀机 RIE/ICP

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具体成交价以合同协议为准
2017-07-03 12:34:23
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产品简介

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

详细介绍

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE

 

等离子刻蚀机 RIE/ICP 产品特色:腔室温度控制范围:室温~60、适用于zui大8”样品及更小样品、本底真空<9×10-5 Torr、可选配Loadlock、刻蚀样品陡直度:可达89°

 

应用领域:适用于各种金属、SiSiO2SiNGaAsGaNII-VI族和III-V族材料的刻蚀

 

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