伯东公司代理磁控溅射系统 Sputter

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2017-07-11 09:49:21
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产品简介

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter、脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE。

详细介绍

伯东公司代理美国真空设备包括等离子增强化学汽相沉积系统PECVD、电子束蒸发台/热阻蒸发台E-beam/Thermal Evaporator、等离子刻蚀机 RIE/ICP、磁控溅射系统 Sputter脉冲激光沉积/激光分子束外延 PLD/Laser-MBE

 

磁控溅射系统 Sputter产品特色:样品台可旋转0-30 RPM、极限真空5×10-7 Torr、磁控管数量zui多4个、zui大磁控管尺寸6” 磁控管与样品间具体可调

 

应用领域:适用于硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、-族化合物及金属等材料表面,镀制AIAuCrTiNiCuWSiO2、各种金属、非金属,单层、多层膜

 

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