蚀刻和剥离系统

CESx124蚀刻和剥离系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2020-04-08 17:13:36
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迈可诺技术有限公司

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产品简介

简介:这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。CESx可以配置多种工艺分配选项,Megasonic喷嘴对DI H20或化学药品的处理分配选项;用于化学制剂的低压喷嘴;化学加热器和DI-H20;用于表面搅拌以加快反应的

详细介绍

特点:

• 专为重要控制和安全而设计的系统。

• 多达9x9英寸/ 300mm直径的基板兼容性。

• 主轴组件具有直流无刷伺服电机,可实现精确的速度控制和分度。

• 特氟龙涂层不锈钢臂可调节臂速度和行进位置。

• 径向排气腔,用于大层流,盖子顶部有N2进料。

• DI-H20加热器,用于清洁和干燥辅助。

• 过程中包含化学相容性材料PVDF或可选的PTFE。

• 独立式聚丙烯柜。

• 微处理器控制功能可以在存储器中保留三十(30)步的配方,每个配方有三十(30)步。配方和步骤的数量均可根据要求扩展。

• 内置安全联锁和双重控制。

• 用联锁装置冲洗整个工艺区域和基材的pH值,以禁止进入工艺区域并控制排放和主轴转速直到安全。

• 按钮盖打开/关闭。

• 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定,并带有屏幕错误报告。

• 用于化学和房屋排水的排水分流阀。

• 设计符合SEMI S2 / S8准则。

 

技术参数:

• 产品:蚀刻和剥离系统

• 型号:CESx124

• 可用机械臂:4

• 大基板尺寸:13英寸直径

• 大主轴速度:2500

• 配方:高达30

• 分配管路:12

 

主营产品:

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉 

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统,湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机

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