垂直LPCVD系统 __ 8寸系列

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2021-12-07 08:40:01
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产品简介

产品信息简介：垂直氧化系统应用于IC集成电路、MEMS、电力电子器件、光电子器件等领域，6、8晶圆的薄膜沉积及参杂等工艺

详细介绍

  • 产品信息
    简介：
     
    垂直氧化系统应用于IC集成电路、MEMS、电力电子器件、光电子器件等领域，6”、8”晶圆的薄膜沉积及参杂等工艺。
     
    产品性能：
     
    ◆立式结构，高效产能，150片/批
     
    ◆配套标准成套工艺，满足客户需求
     
    ◆稳定优良的成膜均匀性，重复性好
     
    ◆高精度可靠的自动压力控制系统
     
    ◆微环境低氧控制*技术
     
    ◆硅片颗粒度控制稳定，国际标准
     
    ◆高集成度，完整的工厂MES系统对接，符合SECS/GEM等标准
     
    配套工艺：
     
    ◆多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2
     
    ◆磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG
     
    ◆TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

     
     
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